Sinossi di Extreme Ultraviolet Lithography

Este libro, escrito por expertos de la industria, detalla el equipo, los materiales y los procedimientos necesarios para ampliar radicalmente las capacidades de fabricación a longitudes de onda de 32 nanómetros e inferiores. Trabaje con máscaras y resinas, configure espejos de alta reflectividad, supere los desafíos térmicos y de potencia, mejore la resolución y minimice la energía desperdiciada. También aprenderá a utilizar la tecnología de deposición de Mo/Si, a ajustar el rendimiento y a optimizar el coste de propiedad. Diseñe fotomáscaras, capas de resina y módulos fuente-colector listos para EUVL. Ensamble componentes ópticos, espejos, microsteppers y escáneres. Aproveche las fuentes de plasma de pulso producidas por láser y descarga. Mejore la resolución utilizando la corrección de proximidad y el cambio de fase. Genere iluminación modificada utilizando elementos holográficos. Mida las dimensiones críticas utilizando la metrología y la escaterometría. Despliegue recubrimientos estables de Mo/Si y multicapas de alta sensibilidad. Maneje los defectos de la máscara, las imperfecciones de la capa y las inestabilidades térmicas.